據(jù)平面拋光機廠家了解，拋光壓力的主要是影響工件與拋光墊之間拋光液層厚度，工件與拋光液之間的接觸主要包括以下三種狀態(tài)，滑動接觸狀態(tài)、半接觸狀態(tài)、直接接觸狀態(tài)。

　　1、滑動接觸狀態(tài)時，拋光壓力較小，工件表面與拋光墊之間的間隙較大，拋光液層的厚度較大，表面上的摩擦力相對較小，拋光壓力穩(wěn)定，從而獲得工件的表面質(zhì)量較好。但是，這種情況下，工件的去除率比較低，拋光效率比較差。

　　2、在半接觸狀態(tài)時，拋光壓力達到合適的值，拋光液層的厚度剛好，能充分發(fā)揮了其潤滑作用，既能有效地生成反應(yīng)物又能將反應(yīng)物快速地從工件上去除，還能很好地傳遞壓力，拋光壓力穩(wěn)定。平面拋光機廠家發(fā)現(xiàn)，在該情況下，拋光液層模型是最佳的，能獲得很好的拋光質(zhì)量和較高的拋光效率。

　　3、在直接接觸狀態(tài)時，拋光壓力過大。自動拋光機廠家提醒，如果拋光墊與工件表面直接接觸，兩者之間幾乎沒有拋光液，屬于固體接觸，摩擦力很大，容易劃傷工件表面，同時造成拋光壓力的不穩(wěn)定。

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