在平面拋光機加工中，選擇合理的運動方式以及拋光軌跡是極為重要的一步，拋光運動和拋光軌跡將會直接影響拋光的精度以及生產(chǎn)的效率。所以，平面拋光機在拋光加工運動中，拋光運動和軌跡應滿足以下幾點。

　　1、在加工工件時，平面拋光機整個拋光運動自始至終都應該力求平穩(wěn)。

　　2、拋光運動應該保證工件能夠均勻地接觸拋光拋光盤的全部表面。

　　3、所選用的拋光運動應使運動軌跡不斷有規(guī)律地改變方向，盡量避免過早地出現(xiàn)重復。

　　4、在平面拋光機的拋光運動中，研具與工件之間處于浮動的狀態(tài)，而不應是強制的限位狀態(tài)。

　　5、拋光運動應保證工件受到均勻拋光即被研工件表面上的每一點所運動的路程應盡量相等。

　　為了保證平面拋光機平穩(wěn)，安裝拋光機的地方要平坦，而且堅固，拋光絕對不能安裝在木質(zhì)地板上。另外，在拋光過程中要使用拋光液，拋光液可以提高拋光效果。

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